光學鍍膜

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真空鍍膜加工和光學鍍膜有什麽區別

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真空鍍膜加工和光學鍍膜有什麽區別

發布日期:2021-03-26 作者: 點擊:

       真空鍍膜加工是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

  光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

  1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方麵,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一係列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被塗覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固並沉積的方法。

  2、光的幹涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜,一般用來控製基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學零件表麵的反射損失,提高成像質量,塗鍍一層或多層透明介質膜,稱為增透膜或減反射膜

  隨著激光技術的發展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要,利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和幹涉濾光片等。光學零件表麵鍍膜後,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束幹涉,控製膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是幹涉鍍膜的基本原理。

真空鍍膜加工

  1、真空鍍膜的方法材料:

  (1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室,抽空後將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表麵,凝結而成薄膜。

  (2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對麵,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然後將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

  (3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。

  (4)離子鍍:實質上離子鍍係真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。

  2、光學鍍膜方法材料

  (1)氟化鎂:無色四方晶係粉末,純度高,用其製備光學鍍膜可提高透過率,不出崩點。

  (2)二氧化矽:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學穩定性好。純度高,用其製備高質量Si02鍍膜,蒸發狀態好,不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

  (3)氧化鋯:白色重質結晶態,具有高的折射率和耐高溫性能,化學性質穩定,純度高,用其製備高質量氧化鋯鍍膜,不出崩點。


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關鍵詞:真空鍍膜加工,真空鍍膜加工材料,真空鍍膜加工生產

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