光學鍍膜

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真空鍍膜加工PVD鍍膜工藝的深入闡述

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真空鍍膜加工PVD鍍膜工藝的深入闡述

發布日期:2019-05-21 作者: 點擊:

PVD鍍膜工藝是目前3C電子等領域應用的主流工藝之一,近期華為發布的P20極光色手機,就是采用了PVD真空漸變鍍膜工藝,引領了新一代漸變色鍍膜工藝的浪潮。

典型的PVD真空漸變鍍膜就是華為P20了,是直接在曲麵玻璃蓋板上進行多層光學鍍膜來實現漸變結構色。

PVD鍍膜

華為P20漸變效果是通過濺射成膜時改變玻璃基片上中下區域的成膜厚度(形成遞增或遞減的變化),從而形成特定的彩虹色光帶,難點就在於光譜色的漸變區間非常難把控,需要不停調整濺射機內部的修正板控製玻璃不同區域的光學厚度

濺射鍍膜和蒸發鍍膜的對比: 

濺射鍍膜工藝可重複性好、膜厚可控製,可在大麵積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,所製備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點,已成為製備薄膜材料的主要技術之一,各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用,因此,對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加,濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的 PVD 鍍膜材料。 蒸發鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝製造角度上來看,蒸鍍材料的製造複雜度要遠遠低於濺射靶材,蒸發鍍膜常用於小尺寸基板材料的鍍膜。

競爭格局

平板顯示器主要包括液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)、場致發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、有機發光二極管顯示器(OLED)以及在 LCD 基礎上發展起來的觸控(TP)顯示產品。 其中,市場應用以液晶顯示器為主。鍍膜是現代平板顯示產業的基礎環節,為保證大麵積膜層的均勻性,提高生產率和降低成本,幾乎所有類型的平板顯示器件都會使用大量的鍍膜材料來形成各類功能薄膜,其所使用的 PVD 鍍膜材料主要為濺射靶材,平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。 

平板顯示行業主要在顯示麵板和觸控屏麵板兩個產品生產環節使用 PVD 鍍膜材料。其中,平板顯示麵板的生產工藝中,玻璃基板要經過多次濺射鍍膜形成 ITO 玻璃,然後再經過鍍膜,加工組裝用於生產 LCD 麵板、PDP 麵板及 OLED 麵板等。觸控屏的生產,則還需將 ITO 玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極,再與防護屏等部件組裝加工而成。 此外,為了實現平板顯示產品的抗反射、消影等功能,還可以在鍍膜環節中增加相應膜層的鍍膜。 

在OLED 工藝中,TFT 陣列和 Cell 成盒兩個階段包含眾多複雜工藝,關鍵設備(TFT 設備、蒸鍍設備和封裝設備)幾乎被日本、韓國和美國所壟斷,且設備價格昂貴,其中蒸鍍設備是整個麵板生產過程中最核心的環節,直接影響到製成品的良率和質量,目前市場上的蒸鍍設備由日、韓兩國壟斷。 

PVD 鍍膜工藝起源於國外,在行業發展初期,鍍膜設備和鍍膜材料的配套以國外廠商為主。國外 PVD 鍍膜材料廠商的鍍膜材料經過與下遊客戶的鍍膜設備、鍍膜工藝的長期磨合,各項性能指標與客戶的匹配性已較好,具有較強的先發優勢,因此,長期以來全球 PVD 鍍膜材料研製和生產主要集中於美國、日本和德國少數公司,產業集中度較高。 



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